一、    報告題目：Al/SiC 多層膜的表征
　　二🏂🏼、    報 告 人✋🏿：Dr. Karine Le Guen
　　三6️⃣、    單    位👩‍⚕️：Laboratoire Chimie Physique - Matière Rayonnement, UPMC CNRS UMR 7614, Paris, France
　　四、    時    間：2009年6月1日（星期一）上午10：00
　　五、    地    點：物理系512學術會議室


　　摘要：
　　由於Al在極紫外波段17.1nm有吸收邊，所以基於Al/SiC多層膜在該波段將有很高的反射率，具有潛在的應用前景。為了深入了解Al/SiC多層膜界面狀態，本報告將介紹采用X射線反射光譜方法測量膜層結構中Al原子和Si原子K線的形狀，確定了其化學狀態。在軟X射線和硬X射線波段，本文使用了反射儀（ XRR ）📇🥠，確定了膜系的厚度和表面粗糙度等結構參數⛺️✍🏽。最後𓀒，本文采用了飛行時間二次離子質譜(TOF-SIMS)🧍，研究了膜層材料的深度分布🏫。還研究了在Al和SiC的界面之間添加W👩🏽‍✈️、Mo的薄層對Al/SiC多層膜界面粗糙度的影響👩‍🏫。